SciELO - Scientific Electronic Library Online

 
vol.13 número2ANALYSIS OF SHORT CIRCUITED ANNULAR RING PATCH ANTENNA OPERATED AT TM01 MODECONSTRUCCIÓN Y CALIBRACIÓN DE UNA CELDA DE SEDIMENTACIÓN GRAVIMÉTRICA PARA LA MEDICIÓN FOTOMÉTRICA DE LA DISTRIBUCIÓN DE TAMAÑO DE MICRO PARTÍCULAS índice de autoresíndice de materiabúsqueda de artículos
Home Pagelista alfabética de revistas  

Servicios Personalizados

Revista

Articulo

Indicadores

Links relacionados

Compartir


Revista Facultad de Ingeniería - Universidad de Tarapacá

versión On-line ISSN 0718-1337

Rev. Fac. Ing. - Univ. Tarapacá v.13 n.2 Arica ago. 2005

http://dx.doi.org/10.4067/S0718-13372005000200004 

  Rev. Fac. Ing. - Univ. Tarapacá, vol. 13 no. 2, 2005, pp. 31-38

DISPERSIÓN ASISTIDA POR MAGNETRÓN EN PELÍCULAS DE TiN

Rubin Ortega de la Rosa1   Claudia Franco M.2   Eduardo Valdés C.2
Guillermo de Anda Rodríguez3

1 Instituto Tecnológico de Zacatecas, Carretera Panamericana entronque a Guadalajara s/n Apartado Postal 245, Tel/fax: (+52) 492 9245366, Zacatecas, México, rubin_ortega_2002@yahoo.com.mx

2 Instituto Tecnológico de Saltillo, Blvd. Venustiano Carranza 2400 Apdo. postal 600 c.p., Tel/fax (+52) 844 4389500, Saltillo, Coah., México

3 Instituto Tecnológico de San Luis Potosí, Av. Tecnologico s/n, c.p. 78437 tel (+ 52) 444 8 18 21 36 ext 127, San Luis Potosí, México



RESUMEN

Por medio de la técnica PVD (Deposición física en fase vapor), de dispersión asistida por un magnetrón, se depositó un recubrimiento de TiN sobre sustratos de acero grado herramienta D2 a partir de un blanco de titanio en una mezcla de gases de Ar y N2. Los recubrimientos fueron depositados a temperaturas alrededor de 400oC de sustrato, observándose una significativa variación en el color clásico dorado y la dureza. Los resultados obtenidos mediante SEM (Microscopio Electrónico de Barrido) y difracción de rayos X revelan que hubo un cambio de coloración, composición y dureza al variar las condiciones de tiempo de depositación y distancia de trabajo sobre los sustratos. Esto fue corroborado en los resultados obtenidos por mediciones de dureza con un microdurómetro Mitutoyo.

La microscopía electrónica de barrido reveló una morfología columnar. Utilizando un microindentador Vickers se obtuvo la dureza de los recubrimientos para las muestras analizadas.

Palabras clave: PVD, magnetrón, TiN, sustratos, SEM.

ABSTRACT

By means of the PVD (Physical Vapour Deposition) technique using magnetron assisted dispersion, a film of TiN it was deposited on sustrates of tool grade steel D2, starting from a titanium target in a mixture of Ar and N2 gases. The films was deposited at sustrate temperatures around 400oC. A significant surface change in the typical golden color and in the hardness was observed. The results obtained using SEM (Scanning Electron Microscope) and diffraction of X rays reveal that there was a change of coloration, composition and hardness when varying the conditions of deposition times and working distances. This was confirmed in the results obtained by hardness measurements using a Mitutoyo microdurometer.

The scanning electronic microscopy revealed a columnar morphology. Vickers hardness measurements were performed on all samples.

Keywords: PVD, magnetron ,TiN, substrates, SEM.


AGRADECIMIENTOS

Agradecemos al COSNET (Consejo del Sistema Nacional de Educación Tecnológica), México, su apoyo para el financiamiento de este trabajo, al CONACYT (Consejo Nacional de Ciencia y Tecnología), México, financiamiento del proyecto. A los Drs. José M. Albella del ICMM (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid) España, Luis Nerey Luna de la Universidad de los Andes, sus valiosas sugerencias.


REFERENCIAS

[1] L. Cunha, M. Andritschky, L. Rebouta and K. Pisehow. “Corrosion of CrN and (TiAl)N Coatings in Chloride-Containing Atmospheres”. Surface and Coatings Technology. no. 116: 1152-1160. 1999.         [ Links ]

[2] Da-Yung Wang, Yen-Way Li, Chi-Long Chang and Wei-Yu Ho. “Deposition of high quality (Ti,Al)N hard coating by vacuum arc evaporation process”. Surface and Coatings Technology. no. 114: 109-113. 1999.         [ Links ]

[3] D.L. Smith. “Thin-Film Deposition”, Mc Gaw Hill. 1995.         [ Links ]

[4] T.A. Li, H. Li, F. Pan. “Microstructure and nanoindentation hardness of Ti/TiN multilayered films”. Surface and Coatings Technology, 137: 225-229. 2001.         [ Links ]

[5] E. Harju, S. Kivivuori and A.S. Korhonen, Surf. Coat. Technol. 98, 112. 1999.         [ Links ]

[6] A. Matthews and A. R. Lefkow. “Problems in the physical vapour deposition of titanium nitride”, Thin Solid Films, 126: 283-291. 1985.         [ Links ]

[7] R. Manory. “Effects of deposition parameters on structure and composition of reactively sputtered TiNX films”, Surface Engineering, 3: 233-240. 1987.         [ Links ]

[8] R. Franchy. “Growth of thin, crystalline oxide, nitride and oxynitride films on metal and metal alloy surfaces”, Surface Science Reports. no. 38: 195-294, 2000.         [ Links ]

[9] M. Ohring. “The Materials Science of Thin Films”, Academic Press Inc, San Diego. 1992.         [ Links ]

[10] C.W. Kimbiln, Journal of Applied Physics, 45, 5235. 1974.         [ Links ]


Recibido el 6 de octubre de 2004, aceptado el 18 de abril de 2005


 

Creative Commons License Todo el contenido de esta revista, excepto dónde está identificado, está bajo una Licencia Creative Commons